前言

清洗功能是配液系统必不可少的一个功能，只有达到有效的，可重复的清洗效果才能持续稳定地保证药品质量。

一、法规要求

药品生产质量管理规范（2010年修订）要求如下：

    第一百四十三条 清洁方法应当经过验证，证实其清洁的效果，以有效防止污染和交叉污染。清洁验证应当综合考虑设备使用情况、所使用的清洁剂和消毒剂、取样方法和位置一级相应回收率、残留物的性质和限度、残留物检验方法的灵敏度等因素。

   根据PDA TP No.29《Points to Consider for Cleaning Validation》引言阐述：

    清洁验证对于降低来自生产设备的药品污染的可能性有着重要作用。它证明了合适的清洁工艺可以持续充分除去生产设备上/系统中产品残留、工艺残留和环境污染，所以该设备/系统可以安全地生产后续产品（相同或不同产品）。

对于配液系统的清洗系统设计而言主要的关键工艺参数（CPPs）有工艺温度，工艺压力，工艺流量，工艺时间，其余的工艺参数与生产操作有关。根据以上要点，配液的清洗方案可以设计如下。

设计说明

      此清洗系统由公用工程系统、罐体和管道系统组成，公用工程使用点直接与罐体和管道系统连接，通过公用工程分配系统自身循环的输送压力，提供CIP时的压力和流速。

应用场景

此清洗系统主要应用于规模比较小的车间，车间的公用工程使用点较少的情况，分配系统的压力有保障。另外一点需要从药液自身的属性来界定，这种简单化的清洗系统适用于溶液型产品，且原料药和辅料的水溶性要好，表面附着力要小。

设计说明

此清洗系统由公用工程系统、罐体、自循环系统和管道系统组成，公用工程使用点直接与罐体连接，自循环系统以罐体为媒介进行清洗水的自循环，系统使用时先通过公用工程的压力对罐体进行自清洗，然后通过泵对罐体进行自循环清洗，再通过罐储量的水对管道进行清洗，系统清洗的压力由泵的性能参数确认，受公用工程的影响较小。

应用场景

此清洗系统主要应用于单品种生产的车间，清洗的冲击效果由泵的输出功率来保障。这种方式受药液的特性影响较小，只要清洗覆盖率没有问题，

设计说明

      此清洗系统由公用工程系统、罐体、CIP工作站和管道系统组成，公用工程使用点直接与CIP工作站连接，配液系统与CIP工作站的控制系统对接， CIP工作站提供增压清洗水、收集清洗水回流、调用清洗配方，对整个系统进行预清洗、循环清洗、最终清洗。清洗的关键参数通过CIP工作站来保证、记录和追溯。

应用场景

此   清洗系统主要应用于多品种交替生产或产品成分较复杂生产的车间，通过设计并调用各种不同的清洗配方来保障清洁效果。通过对CIP工作站的扩充，可设计多种清洗介质来满足不同产品的清洗需求。但是功能的多样性，提高了设备成本，并且还增加了验证工作的复杂性。